単結晶基板 Crystals Substrates: A-Z

 

 

 

 

 

※※※商品名等の“1sp”は片面研磨、“2sp”は両面研磨を表しております※※※
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(A-C) (C-G) (G-L) (L-P) (P-T) (T-Z)
Aluminum
<アルミニウム>

CeO2(Epi-film)
<酸化セリウム>
GdScO3
<スカンジム酸ガドリニウム>
LSGM PbSe
<セレン化鉛>
Te-Dy-Fe(GMM)
Al2O3
<sapphire:サファイア>
CdS
<硫化カドミウム>
GGG
<ガドリニウム
ガリウム
ガーネット>

MgAl2O4(spinel)
<スピネル>
PbTe
<鉛テルル>
W(Polycrystal)
<タングステン>
AlN
<窒化アルミニウム>

CdSe
<セレン化カドミウム>
Graphite
<グラファイト
Mg
<マグネシウム>
SrTiO3
<チタン酸ストロンチウム>
WS2
<硫化タングステン(IV)>
Ag
<銀>

CdTe
<テルル化カドミウム>
 
 InAs
<インジウムヒ素>
MgF2
<フッ化マグネシウム>

Nb:SrTiO3
<チタン酸ストロンチウム>
WSe2
<二セレン化タングステン>
Au
<金>
CdZnTe
<テルル化カドミウム亜鉛>
 InP
<インジウムヒ素>
MgO
<酸化マグネシウム>

SrLaAlO4 WTe2
Au/Cr coated SiO2/Si CsI(TI)
<タリウム活性化ヨウ化セシウム>

InSb
<アンチモン化インジウム>

Mica Disks
<マイカ雲母>
SrLaGaO4  
BaF2
<フッ化バリウム>
Co
≺コバルト>
KCl
<塩化カリウム>
Mo(Polycrystal)
<モリブデン>

SiO2(quartz)
<二酸化ケイ素(石英)>
YAlO3(YAP)
BaTiO3
<チタン酸バリウム>
DyScO3
KH2PO4
<リン酸二水素カリウム>
 MoS2
<ニ硫化モリブデン>
SiC(4H,6H,3C)
<炭化ケイ素>
YAG
<イットリウム  アルミニウム ガーネット>

Bi2Se3
<セレン化ビスマス>
Diamond
<ダイヤモンド>
KTN
<タンタル酸ニオブ酸カリウム>
 MoSe2
<二セレン化モリブデン>
SBN
<ニオブ酸ストロンチウムバリウム>

YIG
<イットリウム 鉄 ガーネット(Y3Fe5O12)>
Bi2Te3
<テルル化ビスマス>
Diamond Epi Film on Si
<ダイヤモンド>
KTaO3
<タンタル酸カリウム>
 MoTe2
<ニテルル化モリブデン>
Si
<ケイ素>
YVO4
<イットリウムバナデート>
Bi4Ge3O12
(BGO12)
<ゲルマン酸ビスマス>
Fe(SS-Poly)
<鉄>

LaAlO3
<ランタンアルミネート>

 NaCl
<塩化ナトリウム>
Si-Ge
<シリコン-ゲルマニウム>
YSZ
<イットリア安定化ジルコニア>
Bi12GeO20
(BGO20)
<ゲルマニウム酸ビスマス>
Fe203 LaF3
<フッ化ランタン>

NaBi(WO4)2  SOI
(Silicon On
Insulator)
ZnO
<酸化亜鉛>
BN(h)
窒化ホウ素>
Fe304 La3Ga5SiO14
ランガサイト

NdCaAlO4
<アルミ酸ネオジムカルシウム>
SOS
(Silicon on
Sapphire)
 
 Black Phosphorus
<黒リン>
Ga2O3-ß LiAlO2
<リチウムアルミニウムオキシド>
Nickel
<ニッケル>
Ti(polycrystal)
<チタン>
ZnS
<硫化亜鉛>
CaF2
<フッ化カルシウム>
 GaAs
<ヒ化ガリウム>
LiGaO2
<リチウムガレート>
NdGaO3
<ネオジムガレート>
TiO2(Anatase)
<酸化チタン(IV)>
Zn
<亜鉛>
C(single crystal)
<炭素>
 
GaN
<窒化ガリウム>
LSAT PBN
(Pyrolytic Boron Nitride)
TiO2(Rutile)
<酸化チタン(IV)>
ZnSe
<セレン化亜鉛>
CaCO3(Calcite)
<炭酸カルシウム(カルサイト)>
 GaSe
<セレン化ガリウム>
Li
<リチウム>
PET Film Nb:TiO2
ZnTe
<テルル化亜鉛>
Cu
<銅>
 
GaP
<リン化ガリウム>
 LiNbO3
<ニオブ酸リチウム>
PbWO4
<タングステン酸鉛>
Ta
<タンタル>
Zr
<ジルコニウム>
Ce:Lu2SiO5  GaTe
<テルル化ガリウム>
LiTaO3
<タンタル酸リチウム>

PMNT
TGG
(Terbium Gallium Garnet)

Zero Diffraction Plate
<ゼロ回折プレート>
 CdWO4
<タングステン酸カドミウム>
GaSb
<アンチモン化ガリウム
 Lu2SiO5:Ce
<ケイ酸ルテチウム>
 PbS
<硫化鉛>
TeO2
<二酸化テルル>
 
Ge
<ゲルマニウム>
 LiF
<フッ化リチウム>
   TbScO3 Two Dimensional Crystal
<2次元結晶> 
Ceramic/Glass Epi thin film on substrate Metal substrate & Foil Target Materials Thermal Oxide wafer New substrate !!!

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Knowledge on Crystal Growth

Verneuil method (doc) (Flamge fusion)
Czochralski method (doc) (Pulling up)
Bridgman method (doc) (Pulling down)
Kryopulos method (doc)
Bagdasarov (doc) (HDC method)
LEC method (doc) (Liquid Encapsulated Czochralski)
The development of Crystal Growth Technology (pdf) — Hans J. Scheel, Chairman of IOCG (Excellent review on Crystal growth history and future)

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